打印此页面

选择要包含的内容,然后打印或保存。保存将使用同一对话框——选择“Save as PDF”作为目标;文件名已预先填入。

← 返回产品页面
Visitech 2 10 月, 2026

LUXBEAM® LLS02

先进封装,精度达 2 µm

405 / 375 nm 激光曝光头,可实现亚微米节点之外最精细的互连——CPO 与玻璃芯 RDL、扇出型封装、MEMS 与微流控,适用于晶圆及最大 510 × 515 mm 的面板。

LLS02 —— 三个关键数字

  • 2 µm 线宽/线距

    在晶圆以及 310 × 310 和 510 × 515 mm 面板上分辨 2 µm 特征,CD 均匀性优于 90%。

  • 双波长激光

    405 与 375 nm。较短波长可实现最精细的特征,并兼容 i-line 光刻胶;标配对准相机。

  • 每小时 60 片晶圆

    Ø300 mm 单次扫描,或 515 × 510 mm 面板每小时 20 片——以先进封装分辨率实现量产效率。

LLS02 的适用场景

  • CPO 与中介层 RDL

    共封装光学与玻璃芯中介层,其再分布层决定密度上限。

  • 扇出型封装

    FOWLP,适用于晶圆及最大 510 × 515 mm 的面板格式。

  • MEMS 与微流控

    传感器图形化与流道几何,特征与其侧壁同样重要。

完整规格

成像与布局

分辨率
2 µm
光源
405 / 375 nm 激光
效率 — Ø300 mm 晶圆
60 wph
效率 — 515 × 510 mm 面板
20 pph
典型应用
CPO RDL、玻璃芯/中介层 RDL、FOWLP、MEMS、微流控
基板/面板
晶圆、310×310、510×515
细分领域
先进封装

集成

冷却
液冷
图形格式
GDSII · OASIS · ODB++ · Gerber
实时功能
定位 · 缩放 · 旋转 · 翘曲补偿 · 重新布线 · 自动对焦

数据仅供讨论,需按应用确认。效率取决于光刻胶与能量密度——请提供两项参数,现场应用工程师将针对您的工艺进行验证。

我们打造成像核心驱动您的下一代设备

  • 掩模已成过去

    基于 DLP 的无掩模曝光,无需采购、存储或更换任何实体掩模。下午 2 点改设计,下午 3 点即可投产。

  • 垂直整合

    所有关键环节均自主掌控 —— 更严的公差、更快的迭代,以及拼装式方案无法比拟的整体系统优化。

  • 经现场验证的合作伙伴

    高效率直接成像的行业标准 —— 在全球 PCB、先进封装与半导体生产中 24/7 持续运行。

visitech.com · https://visitech.com/zh/products/lls02/ 规格如有变更,恕不另行通知。官方产品数据表仍为权威依据。