LUXBEAM® LLS02
先进封装,精度达 2 µm
405 / 375 nm 激光曝光头,可实现亚微米节点之外最精细的互连——CPO 与玻璃芯 RDL、扇出型封装、MEMS 与微流控,适用于晶圆及最大 510 × 515 mm 的面板。
LLS02 —— 三个关键数字
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2 µm 线宽/线距
在晶圆以及 310 × 310 和 510 × 515 mm 面板上分辨 2 µm 特征,CD 均匀性优于 90%。
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双波长激光
405 与 375 nm。较短波长可实现最精细的特征,并兼容 i-line 光刻胶;标配对准相机。
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每小时 60 片晶圆
Ø300 mm 单次扫描,或 515 × 510 mm 面板每小时 20 片——以先进封装分辨率实现量产效率。
LLS02 的适用场景
CPO 与中介层 RDL
共封装光学与玻璃芯中介层,其再分布层决定密度上限。
扇出型封装
FOWLP,适用于晶圆及最大 510 × 515 mm 的面板格式。
MEMS 与微流控
传感器图形化与流道几何,特征与其侧壁同样重要。
完整规格
成像与布局
- 分辨率
- 2 µm
- 光源
- 405 / 375 nm 激光
- 效率 — Ø300 mm 晶圆
- 60 wph
- 效率 — 515 × 510 mm 面板
- 20 pph
- 典型应用
- CPO RDL、玻璃芯/中介层 RDL、FOWLP、MEMS、微流控
- 基板/面板
- 晶圆、310×310、510×515
- 细分领域
- 先进封装
集成
- 冷却
- 液冷
- 图形格式
- GDSII · OASIS · ODB++ · Gerber
- 实时功能
- 定位 · 缩放 · 旋转 · 翘曲补偿 · 重新布线 · 自动对焦
数据仅供讨论,需按应用确认。效率取决于光刻胶与能量密度——请提供两项参数,现场应用工程师将针对您的工艺进行验证。
我们打造成像核心驱动您的下一代设备
掩模已成过去
基于 DLP 的无掩模曝光,无需采购、存储或更换任何实体掩模。下午 2 点改设计,下午 3 点即可投产。
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所有关键环节均自主掌控 —— 更严的公差、更快的迭代,以及拼装式方案无法比拟的整体系统优化。
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