LUXBEAM® LLS05
面向5 µm先进封装
适用于AP重布线层和中介层、IC基板、玻璃积层及mSAP精细线路的405 / 375 nm LASER曝光头,支持从310 × 310到600 × 600 mm的面板。
LLS05——三项关键参数
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5 µm线宽/线距
CD均匀性高于90%,配备标准对位相机。
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405 / 375 nm LASER
单曝光头提供两种波长——较短波长适用于最精细图形和i-line光刻胶。
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支持最大600 × 600 mm面板
支持310 × 310、510 × 515和600 × 600 mm,使精细线路工艺随面板规格灵活扩展。
LLS05的适用场景
AP RDL和中介层
重布线层和中介层可达到先进封装产线规定的布线密度。
IC基板和玻璃积层
有机芯板和玻璃芯板上的积层。
mSAP精细线路
在大尺寸面板上,以改良型半加成工艺加工最精细布线层。
完整规格
成像与布局
- 分辨率
- 5 µm
- 光源
- 405 / 375 nm激光
- 效率 — Ø300 mm晶圆
- 132 wph
- 效率 — 515 × 510 mm面板
- 85 pph
- 典型应用
- AP RDL / 中介层、IC基板、玻璃增层、mSAP精细线路
- 基板/面板
- 310×310, 510×515, 600×600
- 细分领域
- 先进封装
集成
- 冷却
- 液冷
- 图形格式
- GDSII · OASIS · ODB++ · Gerber
- 实时功能
- 定位 · 缩放 · 旋转 · 翘曲补偿 · 重新布线 · 自动对焦
所列参数仅供讨论,需根据具体应用确认。效率取决于光刻胶和能量密度——请将这两项参数发送给我们,由现场应用工程师针对您的工艺进行验证。
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掩模已成为过去
基于DLP的无掩模曝光,无需采购、存储或更换任何实体掩模。2 PM更改设计,3 PM即可投入生产。
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所有关键环节均集中于同一体系——实现更严格的公差、更快速的迭代和完整的系统优化,这是拼装式解决方案无法企及的。
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