アプリケーションソフトウェア · LURIA
精度。制御。信頼。
Visitechの専用リソグラフィーソフトウェアは、高性能なダイレクトイメージング向けに設計されています。半導体および微細加工分野の装置メーカー専用に開発され、最新のファブが求める精度と柔軟性で高解像度のパターニングを実現します。
実証された信頼性
あらゆるリソグラフィーサブシステムの中核
10年以上の実績を持つ当社のソフトウェアスイートは、お客様の開発を加速し、厳しいプロセス要件への対応と、試作から高スループットの量産への確実なスケールアップを支援します。
ソフトウェアスイートの特長
高度なデータワーピング
光学歪みや基板のばらつきを動的に補正し、すべての露光で高い忠実度を確保します。
ダイのシフト補正
ダイの配置ばらつきに合わせて投影をリアルタイムで調整し、より厳しい公差と高いプロセス歩留まりを実現します。
パネルの反り制御
ウエハやパネルの表面形状に合わせてフォーカスを動的に追従・補正し、シャープな像を維持します。
サードパーティ製ソフトウェアとの互換性
標準インターフェースにより、上流・下流のリソグラフィーワークフローとシームレスに統合できます。
自動システムキャリブレーション
内蔵のキャリブレーション・アライメントツールにより、セットアップ時間を短縮し、長期にわたり安定した性能を確保します。
システムビルダーのために設計
半導体製造の厳しい要求に応える、堅牢で柔軟なインターフェース。装置メーカーが限界を押し広げ、生産を拡大し、業界をリードできるよう支援します。当社はリソグラフィーと積層造形の両分野でプラットフォームの開発・テスト・サポートを行い、性能、歩留まり、使いやすさを向上させています。
Visitech inside
生産規模の拡大をお考えですか？
Visitech insideで、精度とコスト効率を実現します。