ダイレクトイメージング · 半導体・IC基板
IC基板およびウエハレベル向けマスクレスイメージング
IC基板のビルドアップ、mSAPファインライン、ガラスコア、ならびにウエハレベルのMEMS、センサー、マスク描画に対応。6 µmから1 µmのライン/スペースまでのダイレクトイメージングを、最大600 × 600 mmのパネルおよびウエハ上で実現します。
稼働中のダイレクトイメージング 量産におけるダイレクトイメージング 製造現場のための設計 自社で組立・試験
基板および半導体にLUXBEAM®が選ばれる理由
パネル全面にわたるナノメートル制御
大型パネルでのファインライン
IC基板、インターポーザーおよびRDL、mSAPファインライン、ガラスビルドアップを5~6 µmのライン/スペースで、最大600 × 600 mmのパネル上に実現します。
ウエハとガラスでサブミクロン
LLS1000はウエハおよびガラス上に1 µmのライン/スペースを描画し、ガラスコアの微細RDLやマスク描画に対応します。
フォーマット全体でのCD制御
ステッチング、エッジラフネス、CD均一性をナノメートルスケールで制御します。ウエハおよびパネル全面でのCD均一性は90 %を超えます。
リアルタイム反り補正
LURIAは各露光の前に基板を読み取り、パネルのシフト、回転、伸縮、反りに合わせてアートワークを補正します。
i-line対応
375 nmレーザーオプションにより、i-lineレジストへの対応と最も微細なパターン形成を実現します。
ファブ対応のデータ処理
GDSIIおよびOASIS入力、ユニット単位のシリアライゼーション、完全なAPIアクセスに対応。ヘッドは既存のファブソフトウェアにそのまま適合します。
アプリケーション
基板ビルドアップからウエハレベルまで
同一のLUXBEAM®プラットフォームで、基板製造からウエハレベルの半導体プロセスまで対応します:
推奨フォトヘッド
基板・半導体向けのヘッド
この領域は5機種のフォトヘッドでカバーし、ライン/スペースは6 µmから1 µmまで対応します。LLS05とLLS06は、最大600 × 600 mmのパネル上でのIC基板およびガラスビルドアップに対応します。LLS03は3 µmでIC基板とRDLに対応します。LLS02とLLS1000はガラスコアおよびウエハレベルの加工に対応します。全機種の比較は詳細仕様表をご覧ください。数値は検討用であり、用途ごとに確認が必要です。

基板および半導体に適したLLSフォトヘッド
LLS1000
1µmライン / スペース- 光源
- 405 / 375 nm レーザー
- Ø300 ウエハ
- ~32 s · 112 wph
- パネル
- ~110 s/片面 · 32 pph
LLS02
2µmライン / スペース- 光源
- 405 / 375 nmレーザー
- Ø300 ウエハ
- 60 wph
- パネル
- 20 pph
LLS03
3µmライン / スペース- 光源
- 405 / 375 nmレーザー
- Ø300 ウエハ
- 102 wph
- パネル
- 32 pph
LLS05
5µmライン / スペース- 光源
- 405 / 375 nmレーザー
- Ø300 ウエハ
- 132 wph
- パネル
- 85 pph
LLS06
6µmライン / スペース- 光源
- 405 / 375 nmレーザー、または4ピークLED
- Ø300 ウエハ
- 720 wph
- パネル
- 240 pph
量産でのイメージング実績
ファインラインを実際に露光
LUXBEAM®フォトヘッドでパターニングしたレジストの実際の顕微鏡画像です。レンダリング画像ではありません。各タイルを開くと全体画像をご覧いただけます。
レジスト · 顕微鏡画像 2 µm L/S
LLS02 · ウエハ 2 µm L/S
LLS03 · 光学顕微鏡 3 µm L/S
LLS1000 · 詳細 < 1 µm エッジ
LUXBEAM®サブシステムは、どの基板・半導体プロセスに対応していますか?
パネル上のIC基板ビルドアップ(FCBGA、FCCSP)、インターポーザーおよびRDL、mSAPのファインライン、SLP、ガラスビルドアップに加え、ガラスコア、HBM RDL、さらにMEMS、センサー、マイクロ流体、マスク描画などのウエハレベルの加工に対応します。すべてのヘッドは共通のLURIAプラットフォームで動作します。
IC基板ではどのライン/スペースまでイメージングできますか?
LLS05とLLS06は、最大600 × 600 mmのパネル上で、5〜6 µmのライン/スペースによるIC基板、mSAPのファインライン、ガラスビルドアップに対応します。より微細なRDLやインターポーザーには、LLS03で3 µmまで、LLS02とLLS1000で2 µmおよび1 µmまで対応します。
どのパネルおよびウエハのフォーマットに対応していますか?
パネルは310 × 310、510 × 515、600 × 600 mmに対応します。LLS1000、LLS02、LLS03はウエハ上でのイメージングにも対応し、LLS1000はガラスにも対応します。サブシステム側にパネルサイズの理論上の制限はなく、フォーマットは組み込む装置によって決まります。
反りやダイのシフトにはどう対処しますか?
LURIAは毎回の露光前に基板を読み取り、アートワークをリアルタイムで適応させます。位置決め、スケーリング、回転、ワーピングに加え、ダイのシフト補正やインターコネクトの再配線も行います。これにより、固定マスクでは対応しきれない場面でも、フィーチャーの配置精度を維持します。
どのレジストと波長を使用できますか?
LLS1000からLLS05までは405 / 375 nmレーザーを使用し、375 nmオプションによりi線レジストに対応します。LLS06は365、380、395、405 nmの4ピークLEDでも動作でき、プロセスごとに切り替え可能です。
フォトヘッドを自社装置に組み込むことはできますか?
はい。LLSは装置メーカー向けのサブシステムです。液冷式フォトヘッド、GDSII・OASIS・ODB++・Gerberデータ入力、完全なAPIアクセスとパラメータ制御に加え、サブシステム上で動作する、またはお客様のモーションコントローラーへ出力するオートフォーカスを備えています。
まずはご相談ください
マスクレスイメージングをお客様の基板ラインへ
基板、目標ライン/スペース、パネルまたはウエハのフォーマットをお知らせください。通常2営業日以内に、推奨フォトヘッドと構成をご提案します。