ダイレクトイメージング · セキュリティ&認証
光学可変デバイスの原版製作
ホログラム、回折格子、マイクロ光学素子向けのマスクレスDLP®ベース直接描画オリジネーション — 紙幣、身分証明書、ブランド保護を支えるマスター層です。
OVDとは
見て、傾けて確かめるセキュリティ
光学可変デバイスは、動かすと見え方が変化します — 色、画像、奥行き、動き。効果はミクロン以下の微細な表面構造によって生まれるため、コピー、スキャン、再印刷による複製はできません。
効果の品質はマスターで決まります。その構造をレジストに描画するオリジネーションこそがセキュリティを左右する工程であり、まさにLUXBEAM®フォトヘッドが担う役割です。
DLP®オリジネーションを選ぶ理由
1台のフォトヘッドであらゆる構造を
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オン/オフだけでなくグレースケールに対応
マイクロミラーごとに個別の露光ドーズを与えるため、ブレーズド回折格子、キノフォーム、連続レリーフのマイクロ光学素子も、線画を描画するのと同じヘッドで製作できます。
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サブミクロンの微細構造
ライン/スペースは1 µmまで設定可能で、回折構造に必要なドーズ制御も備えています。解像度と深さを1パスで実現します。
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本質的にマスクレス
マスクも版もリードタイムも不要です。新しいデザインは新しいファイルにすぎないため、オリジネーションの内容を当日の朝に変更できます。
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大面積でもステッチング痕なし
独自ソフトウェアがステッチングのアーティファクトを完全に除去するため、フォイル全面のパターンでも継ぎ目は残りません。
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研究室ではなく量産のために
同じフォトヘッドが世界中の大量生産向けイメージングラインで稼働しています — 組立、アライメント、試験はすべてドランメンの自社施設で行っています。
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単体装置ではなくサブシステム
光学系、エレクトロニクス、データパス、LURIAソフトウェアを、お客様のステージ、基板、レジストに合わせて仕様設定します。
描画できるもの
回折格子からナノレリーフまで
構造と基板をお知らせください。それに合わせて、ヘッド、光学系、露光レシピを仕様設定します。
- ドットマトリクスおよび高解像度の回折格子
- 計算機合成ホログラムおよびキノフォーム
- ブレーズドおよびマルチレベルのグレースケールレリーフ
- マイクロレンズおよびレンズアレイのマスター
- ギョーシェ、マイクロテキスト、ナノテキスト
- エンボス用シムおよびニッケルマスターのオリジネーション
用途
1つのマスターから、多様な文書へ
当社がサポートするすべての光学セキュリティプログラムに、同じオリジネーションプロセスが活用されています：
OVDそのものを製造しているのですか？それともOVDを描画する装置ですか？
装置です。Visitechは、オリジネーション装置や直接描画装置に組み込まれるイメージングサブシステムである、DLP®ベースのフォトヘッドを製造しています。プロセスとステージはお客様、光学エンジンは当社が担います。
どこまで微細に描画できますか？
ライン/スペースはシリーズ全体で設定可能で、30 µmからLLS1000では1 µmまで対応します。回折構造では通常、ライン自体よりも露光ドーズの解像度が決め手となるため、両者を合わせて仕様化します。
1台のヘッドで線画と回折構造の両方を描画できますか？
はい。グレースケール露光はDLP®の標準機能のため、通常のパターンを描画するヘッドで、同じ工程内に連続レリーフ構造も描画できます。2台目の装置は不要です。
どのソフトウェアで制御しますか？
当社のアプリケーションソフトウェアLURIAです。データ準備、露光レシピ、ステージ同期を担います。当社のリソグラフィー顧客が量産で使用しているものと同じソフトウェアスタックです。
導入を決める前にサンプル露光を確認できますか？
多くの場合、可能です。構造と使用予定のレジストをお送りいただければ、実現可能な範囲と、そこに到達するために必要な条件をお伝えします。
Visitech搭載
次のデバイスのオリジネーションを始めませんか？
構造、基板、生産量をお知らせください。最適な描画ヘッドをご提案します。