应用软件 · LURIA
精准。掌控。信心。
Visitech专用光刻软件专为高性能直接成像而设计，面向半导体和微纳制造设备制造商，以现代晶圆厂所需的精度和灵活性实现高分辨率图形化。
可靠性久经验证
每套光刻子系统的核心组成部分
我们的软件套件已历经十余年现场验证，帮助客户加快开发、满足严苛的工艺要求，并从原型可靠扩展至高效率量产。
软件套件亮点
先进数据变形校正
动态补偿光学畸变和基板差异，确保每次曝光的图形保真度。
芯片错位补偿
实时调整投影，以适应芯片贴装位置偏差，从而实现更严格的公差和更高的工艺良率。
面板翘曲控制
动态跟踪并校正焦点，适应晶圆或面板的表面形貌，保持图像清晰。
第三方软件兼容性
采用标准接口，与上下游光刻工作流程无缝集成。
系统自动校准
内置校准和对准工具可缩短设置时间，并确保长期性能稳定。
专为系统设备制造商打造
稳健灵活的接口专为满足半导体制造的严苛要求而打造，助力设备制造商突破边界、扩大生产并引领行业。我们针对光刻和增材制造平台进行开发、测试并提供支持，以提升性能、良率和易用性。
内置 Visitech
准备扩大生产规模？
内置 Visitech，实现精准且经济高效的生产。