直接成像 · 防伪与鉴真
光学可变器件母版制作
面向全息图、衍射光栅与微光学结构的无掩模DLP®直写母版制作——支撑纸币、身份证件与品牌防伪的母版层。
什么是光学可变器件
一转即辨的防伪
光学可变器件（OVD）会随观察角度改变颜色、图像、景深或动感。由于这种效果源自亚微米级的表面结构本身，因此无法通过复印、扫描或重新印刷复制。
效果的上限取决于母版。将这些结构写入光刻胶的母版制作环节，正是防伪等级的决定性工序——也正是LUXBEAM®曝光头所做的工作。
为何选择DLP®母版制作
一个曝光头，写出所有结构
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灰度曝光，而非简单开关
每一个微镜都可独立控制曝光剂量，因此闪耀光栅、相位全息与连续浮雕微光学结构，都可由书写线条图形的同一个曝光头完成。
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亚微米特征
线宽/线距可配置至1 µm，并具备衍射结构所需的剂量控制能力——一次曝光同时决定分辨率与深度。
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无掩模，从设计之初
无需掩模、无需版材、无需制版周期。新设计即新文件，母版工艺可以在需要的当天上午调整。
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大面积无拼接
专有软件彻底消除拼接痕迹——整幅箔宽的图案不会留下任何可供伪造者利用的接缝。
为量产而生，而非实验室
同样的曝光头正运行在全球各地的量产成像线上——在德拉门自有工厂完成装配、校准与测试。
是子系统，而非一个盒子
光学、电子、数据链路与LURIA软件，均围绕您的运动平台、基板与光刻胶量身规划。
可写入的结构
从衍射光栅到纳米浮雕
告诉我们结构与基板，我们据此规划曝光头、光学系统与曝光配方。
- 点阵与高分辨率衍射光栅
- 计算全息图与相位全息
- 闪耀型与多级灰度浮雕
- 微透镜与透镜阵列母版
- 团花、微缩文字与纳米文字
- 压印模具与镍母版制作
关键数据
用数据说话
- 最小线宽/线距
- 1 µm
- 曝光头型号数量
- 8
- 所需掩模或版材
- 0
- DLP®量产经验（年）
- 20+
应用领域
一块母版，多种载体
同一套母版制作流程，支撑我们服务的每一个光学防伪项目：
你们生产光学可变器件本身，还是生产写入它们的设备？
是设备。Visitech制造基于DLP®的曝光头，即母版制作或直接成像设备内部的成像子系统。工艺与运动平台归您，光引擎归我们。
能写到多精细？
线宽/线距在整个产品系列内可配置，从30 µm一直到LLS1000的1 µm。对于衍射结构，决定性指标通常是剂量分辨率而非线宽本身，两者需一并确定。
一个曝光头能同时做线条图形与衍射结构吗？
可以。灰度曝光是DLP®的原生能力，因此书写常规图案的曝光头可以在同一次运行中写出连续浮雕结构——无需第二台设备。
由什么软件驱动？
由我们的应用软件LURIA负责数据准备、曝光配方与运动平台同步。它与我们光刻客户在量产中使用的是同一套软件。
能否在采购前先做样品曝光？
通常可以。请将您计划使用的结构与光刻胶发给我们，我们会告知哪些是可实现的，以及实现所需的条件。
Visitech inside
准备制作下一件器件的母版？
告诉我们结构、基板与产量——我们会告诉您哪一款曝光头能写出它。