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Visitechの技術用語集
DLPイメージング、ダイレクトイメージングリソグラフィー、積層造形の分野では、用語の半分が略語です。各用語の意味を、ハードウェアを開発するエンジニアが平易な言葉で解説します。
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9 件の用語
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A
B
- BEAM30
- 30 µm 以上のライン/スペースを高出力で露光する LUXBEAM フォトヘッドです。1〜7 チャンネルの 4 ピーク LED 光源を備え、厚銅基板、パワーモジュール、大電流基板に適しています。
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- Bifrost
- Visitech の LED ドライバーです。固定電流ではなく光学フィードバックにより光源を一定光束に保つため、LED の温度上昇によるドリフトを抑え、露光中のパワー均一性を 99% 以上に維持します。
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- 造形領域 Build area
- 基板を移動させずに露光できる面積です。マルチヘッド構成やスクロール方式のシステムでは、構成全体でカバーできる面積を指します。
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C
- キャリブレーションカメラ Calibration camera
- 露光前に基板の基準マーク、歪み、位置を計測するカメラです。これによりパターンを基板に合わせて補正でき、1 枚単位の補正が理論上の話ではなく実現可能なものになります。
- チップファースト Chip first
- ファンアウト工程のうち、ダイを配置・モールドしてから、その上に配線を形成する順序を指します。高速ですが、モールド時にダイがわずかに移動するため、実際の位置に合わせて配線を補正する必要があります。
- 家電 Consumer electronics
- スマートフォン、ノート PC、ウェアラブル機器などを指します。そのパッケージング密度が、ファインラインイメージング需要の大部分を牽引しています。
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- コントラスト比 Contrast ratio
- 露光されたピクセルの光量と、オフのピクセルに漏れ込む光量との比です。コントラストが低いと未露光であるべき領域がかぶり、画像が暗くなるのではなく、ライン/スペースの再現性が失われる形で現れます。
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- 冷却システム Cooling system
- 発熱を除去する方式で、空冷または液体冷却があります。液体冷却は光学系の温度をより安定に保ちます。光学系が温まるとドリフトが生じ、パターン位置がずれるため、この点が重要になります。
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D
- データ形式 Data format
- ヘッドが直接読み込めるアートワーク形式を示します。Gerber、ODB++、GDSII、OASIS、各種ビットマップ形式などがあり、CAD から装置までの間にどれだけの変換工程が必要かを左右します。
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- データスループット Data throughput
- 画像データを光学エンジンへ転送できる速度です。スクロール露光では実質的な制約となり、ステージの移動速度に合わせてパターンを供給し続ける必要があるため、10 G 接続やストリーミングが用意されています。
- ダイレクトイメージ焼結 Direct image sintering
- 走査レーザースポットで描画するのではなく、粉末床に層の画像を投影して 1 層全体を一度に焼結する方式です。粉末床溶融結合に対する DLP アプローチを指す Visitech の用語です。
- ダイレクトイメージングリソグラフィー Direct imaging lithography
- フォトマスクを使わないリソグラフィーです。パターンをデジタルデータから直接基板に描画するため、基板ごとに異なる露光が可能となり、1 枚単位での補正が実現します。
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- DLP
- Digital Light Processing の略で、数百万個の可動マイクロミラーを集積したチップを用いる Texas Instruments のイメージング技術です。マスクや可動光学系を使わずに、パターン全体を一度に形成できます。
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- DMD
- Digital Micromirror Device の略で、DLP チップ本体を指します。1 枚のマイクロミラーが 1 ピクセルに相当し、一方に傾けると基板へ、他方に傾けるとビームダンプへ光を送ります。DMD の種類がフォトヘッドの解像度と速度をほぼ決定します。
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E
F
- ファンアウト型パネルレベルパッケージング Fan-out panel level packaging
- 円形ウエハではなく大型の矩形パネル上で行うファンアウトパッケージングです。1 回の処理でより多くのパッケージを製造できます。FOPLP と略されます。
- ファンアウト型ウエハレベルパッケージング Fan-out wafer level packaging
- ダイの接続をダイ自身の外形を超えて周囲のモールド領域へ引き出すパッケージング手法です。小さなダイでも外形寸法の制約を超える数の I/O を確保できます。FOWLP と略されます。
- FCBGA
- フリップチップボールグリッドアレイの略です。ダイを基板に対して face-down で実装し、パッケージ底面のはんだボール格子を介して回路基板と接続するパッケージ形態です。
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- ファインライン Fine-line
- 基板自体の変形やイメージングシステムの精度が制約となるほど微細なライン幅での加工を指す表現です。PCB やパッケージングの領域では、概ね 15 µm 以下を指します。
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- フリップチップボールグリッドアレイ Flip chip ball grid array
- ダイを face-down で実装し、パッケージ底面のはんだボール格子を介して基板と接続するパッケージ形態です。FCBGA と略されます。
- FOPLP
- ファンアウト型パネルレベルパッケージングの略です。円形ウエハではなく大型の矩形パネル上でファンアウトパッケージングを行うため、1 回の処理でより多くのパッケージを製造できます。
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- FOWLP
- ファンアウト型ウエハレベルパッケージングの略です。ダイの接続をダイ自身の外形を超えて周囲のモールド領域まで引き出すことで、小さなダイでも外形寸法の制約を超える数の I/O を確保できます。
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G
H
I
L
- L/S
- ライン/スペースの略で、リソグラフィープロセスの微細度を表す標準的な指標です。導体の幅とその隣のスペースの幅を指し、両者が等しい場合は「15 µm L/S」のように 1 つの数値で表記します。
- LAMA
- LRS 光学エンジンを制御するソフトウェアプラットフォームと API です。LAMA Standard は全エンジンに標準付属し、任意のモーションコントローラーと組み合わせられます。LAMA Pro ではサブピクセル処理、エッジブレンディング、リアルタイムワーピング、データストリーミングが利用できます。
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- LED
- 発光ダイオードのことです。多くの LUXBEAM ヘッドが採用する光源で、瞬時に点灯し、ウォームアップもランプ交換も不要です。出力はシャッターではなく電子的に制御します。
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- LEDドライバー LED driver
- LED 光源に電力を供給し制御するエレクトロニクスです。電流ではなく光束を一定に保つことで、LED の温度上昇にかかわらず露光量の再現性が維持されます。
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- LEDセーフティスイッチ LED safety switch
- 光学エンジンを組み込んだ筐体が開かれた際に光源を遮断するインターロックです。この出力レベルの UV 光源は安全上の配慮が必要であり、インテグレーターはこの機構を利用して安全設計を行います。
- レンズ Lens
- DMD と基板の間に配置される投影光学系です。レンズの選択によってピクセルピッチ、視野サイズ、作動距離が同時に決まるため、これらを個別に選ぶことはできません。
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- 光学エンジン Light engine
- 画像データを投影パターンに変換する光学サブシステムです。光源、DMD、投影光学系、およびそれらを駆動するエレクトロニクスで構成されます。LRS シリーズはこの光学エンジンにあたります。
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- 光源 Light source
- 光を発生させる部分で、LED アレイまたはレーザーが用いられます。波長と利用可能な出力を決定し、その安定性が露光の再現性を左右します。
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- ライン/スペース Line/space
- 導体の幅とその隣のスペースの幅を指し、リソグラフィープロセスの微細度を表す標準的な指標です。両者が等しい場合は「15 µm ライン/スペース」のように 1 つの数値で表記します。
- ラインエッジラフネス Line edge roughness
- 露光されたラインのエッジを拡大して見たときの粗さです。ライン幅が細く、粗さがその幅に対して無視できない割合を占める場合に特に重要となります。
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- ライン幅 Line width
- 露光された 1 本のパターンの幅です。基板全体でどれだけ設計値に一致しているかは、レジストレーションと並んでリソグラフィープロセスを評価する 2 つの指標の 1 つです。
- リソグラフィー Lithography
- 光を用いてパターンを基板に転写する技術です。エレクトロニクス製造では、エッチングや現像の前に導体やソルダーマスクなどの層を画定する工程を指します。
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- LLS
- LUXBEAM Lithography System の略で、ダイレクトイメージングリソグラフィー向けの Visitech フォトヘッドシリーズです。30 µm ライン/スペースの LLS30 から、1 µm 以下に対応する LLS1000 まで揃います。全機種が同じ LURIA ソフトウェアで動作するため、一機種で確立したプロセスをそのまま他機種へ展開できます。
- LRS
- LUXBEAM Rapid System の略で、積層造形および産業用イメージング向けの Visitech DLP 光学エンジンのシリーズです。LRS は装置メーカーが組み込んで制御する光学・電子コアであり、その周辺の装置はお客様が構築します。
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M
- マシンビルダー Machine builder
- 完成品である製造装置を設計・販売し、フォトヘッドなどのサブシステムを組み込む企業です。Visitech の直接のお客様にあたります。
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- マスクレス Maskless
- フォトマスクを使用しないことを指します。マスクレスプロセスでは、設計変更のたびにマスクを製作・保管・アライメント・交換する必要がなく、設計変更はファイルの変更だけで完結します。
- 最大造形領域 Maximum build area
- 積層造形装置が 1 層で露光できる最大面積です。構成に含まれるヘッドの数に応じて決まります。
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- MCx
- LRS-MCx シリーズを指します。積層造形向けの Visitech マルチチャンネル UV 光学エンジンで、造形領域・解像度・プロセスの組み合わせに応じて 4K、WQXGA、HD、NIR の各仕様が用意されています。
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製品
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- 微小電気機械システムの略で、チップスケールで可動機構を作り込んだデバイスを指します。DMD もその 1 つで、1 つのダイ上に数百万個のヒンジ付きミラーが並んでいます。
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- 計測 Metrology
- 物体の形状や寸法を測定することで、Visitech では DLP を用いた 3D 計測を指します。プロジェクターが精密な光パターンを対象物の表面に投影し、そのパターンの変形からカメラが形状を再構成します。この市場には、旧 Keynote Photonics のチームである Visitech Americas が対応しています。
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- ムーアの法則 Moore's law
- チップ上のトランジスタ数が約 2 年ごとに倍増するという経験則です。シリコンレベルでの進展が鈍化するなか、残された高密度化の余地の多くはパッケージング側に見出されています。
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- 基板やヘッド、あるいはその両方を移動させるステージと駆動機構です。スクロール方式のシステムでは、その精度と露光は別々の課題ではなく一体の課題となります。
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2 件の製品 · 2 件のページ · 6 件の記事 · 1件のドキュメント — モーションシステム のリンク先
N
O
- 動作モード Operation mode
- ヘッドの露光方式を示します。移動する基板の上をスクロールするか、静止した基板の上で静止露光するかの違いです。この選択がスループット、精度、および周辺のモーションシステムの構成を左右します。
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- 光学多重化 Optical multiplexing
- 複数の光路を 1 つの出力にまとめる手法です。単一光源では得られない高い出力を 1 台のヘッドから取り出せます。
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- 有機基板 Organic substrate
- セラミックやシリコンではなく、樹脂とガラス繊維から作られるパッケージ基板です。安価で大型パネルにも対応できる一方、熱や湿度で変形するため、パターンを基板に合わせて補正する必要があります。
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P
- パネル Panel
- 大型の矩形基板です。ウエハではなくパネルで処理することで 1 回あたりの生産量は増えますが、平坦性と安定性を保つのが難しくなります。
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- PBF
- 粉末床溶融結合の略で、粉末を層ごとに溶融させて部品を造形する積層造形プロセスの総称です。選択的レーザー焼結もその 1 つです。
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- PCB
- プリント回路基板の略で、製品の電子部品を保持し相互に接続する基板です。銅箔パターンとソルダーマスクをこの基板上に形成する手段がダイレクトイメージングリソグラフィーです。
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- フォトヘッド Photohead
- DMD、光学系、光源、ドライバー、制御エレクトロニクスを 1 つの筐体に収めた完結型のイメージングユニットで、装置メーカーが自社システムに組み込んで使用します。パターンの露光はフォトヘッドが担い、基板の搬送や位置決めは周辺の装置が担当します。
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1 件の製品 · 1 件のページ · 6 件の記事 · 1件のドキュメント — フォトヘッド のリンク先
- ピクセルピッチ Pixel pitch
- 作業面における投影ピクセルの間隔をミクロン単位で表したものです。解像度と組み合わさることで、視野サイズと最小形状の両方が決まります。
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- ポリマー Polymer
- 光造形において部品を構成する樹脂であり、リソグラフィーで使用されるレジスト膜が属する材料分類でもあります。
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- 粉末床溶融結合 Powder bed fusion
- 粉末の層を順次溶融させて部品を造形する積層造形プロセスの総称です。PBF と略されます。
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- 消費電力 Power consumption
- ユニットが電源から消費する電力です。電気的な仕様であると同時に、キャビネット設計と冷却設計の前提条件でもあります。
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- パワー均一性 Power uniformity
- 露光フィールド全体にわたる光量の均一性をパーセントで示したものです。光量が不均一だと同じパターンでも場所によって現像結果が変わるため、この値がライン幅仕様の実力を規定します。
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- プロジェクター Projector
- 離れた面にパターンを結像させる光学ユニットです。産業用の場合は、明るさやコントラストではなく、出力パワー、波長、作業面でのピクセルピッチによって仕様が規定されます。
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- プロジェクター出力パワー Projector output power
- 作業面においてヘッドが供給する光出力をワット単位で示したものです。材料が必要とする露光量と組み合わせることで、1 層あたりの露光速度が決まります。
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R
S
- スクロール Scrolling
- 基板をヘッドの下で連続的に移動させながら露光する方式です。パターンは動きに同期して DMD へストリーミングされます。ステッパーのような停止と移動の繰り返しなしに、大面積を露光できます。
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- 選択的レーザー焼結 Selective laser sintering
- 走査レーザーで粉末を 1 点ずつ溶融させる粉末床溶融結合プロセスです。SLS と略されます。
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- ソルダーマスク Soldermask
- 基板の銅箔を覆う保護層で、部品をはんだ付けする箇所だけが開口されます。ファインピッチ基板では、その開口位置を下層の銅箔と同等の精度で合わせる必要があります。
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- スタッキング Stacking
- 同じ領域に複数の光学エンジンを配置し、それぞれの視野を合成する構成です。出力の増強、カバー範囲の拡大、またはその両方を目的とします。
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- スタティック / スタック Static / stacked
- 基板を静止させたまま 1 フィールドずつ露光する方式です。より広い面積や高い出力が必要な場合は、同じ領域に複数のヘッドをスタックします。スクロール方式より低速ですが、最も高い精度が得られます。
- ステッチング Stitching
- 複数の露光を並べて配置し、1 つの大きなパターンを構成することです。継ぎ目の精度が、結果として連続した 1 つのパターンとして機能するかどうかを左右します。
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- サブピクセル処理 Sub-pixelation
- 隣接するミラーの動作を変調することで、パターンのエッジを 1 画素上ではなく 2 画素の間に配置する手法です。ピクセルピッチだけで決まる格子よりも細かい実効グリッドが得られます。
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- 基板 Substrate
- 露光の対象となるもの全般を指します。パネル、ウエハ、基板、パッケージキャリアなど、種類を問わない場合にこの語を用います。
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- サブシステム Subsystem
- 単体で使用するのではなく、より大きな装置に組み込むことを前提とした完結型の機能ユニットです。Visitech の製品はすべてサブシステムであり、装置本体はお客様が構築します。
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4 件のページ · 1 件の記事 — サブシステム のリンク先
T
W
- ウエハ Wafer
- 半導体材料の薄い円板で、チップはこの形状で製造されます。円形であるため矩形パターンでは四隅が無駄になり、これがパネルレベル処理を採用する理由の 1 つとなっています。
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4 件の製品 · 1 件の記事 · 4件のドキュメント — ウエハ のリンク先
- ワーピング Warping
- 設計時の形状どおりではない基板に合わせるため、露光前にパターンを変形させる処理です。実際に装置内にあるパネルに合わせて、アートワークを拡大縮小・回転・局所的に歪ませます。
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- 波長 Wavelength
- 光の色をナノメートル単位で表したものです。レジストや材料が反応する波長と一致している必要があり、UV では 365、375、385、405 nm が一般的で、熱プロセスの場合は NIR が用いられます。
Y
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