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Visitech 技术术语表

DLP 成像、直接成像光刻与增材制造领域的术语，有一半是缩写。本术语表由设计这些硬件的工程师撰写，用通俗的语言说明每一个术语的确切含义。

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32 条术语

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4K
指 4096 × 2160 的 DMD 分辨率——单次曝光即可寻址近九百万个原生像素，无需将两幅较小画面拼接。

C

对位相机 Calibration camera
在曝光前测量基板基准点、畸变与位置的相机。正因为有它，逐板校正才从理论变为可行。
对比度 Contrast ratio
已曝光像素的光强与漏入关闭像素的光强之比。对比度低会使本应保持未曝光的区域产生灰雾，其表现不是画面变暗，而是线宽/线距无法做细。
1 个产品 · 1 份文档 — 对比度 的链接对象

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D

DLP
Digital Light Processing 的缩写，是德州仪器的成像技术，核心是一块集成数百万个可独立翻转微镜的芯片。它使曝光头无需掩模、无需移动光学元件即可一次性形成完整图形。
1 个产品 · 4 个页面 · 6 篇文章 — DLP 的链接对象

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DMD
Digital Micromirror Device 的缩写，即 DLP 芯片本体。每个微镜对应一个像素：朝一个方向翻转即把光送向基板，朝另一个方向翻转则送入光陷阱。DMD 型号基本决定了曝光头的分辨率与速度。
6 个产品 · 2 个页面 · 4 篇文章 · 3 份文档 — DMD 的链接对象

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DMD型号 DMD Type
指光机内所采用的德州仪器微镜器件型号。它决定原生分辨率与帧率，并与镜头共同决定像素尺寸，因此是数据单上最值得先看的一行。
6 个产品 · 3 份文档 — DMD型号 的链接对象

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E

边缘融合 Edge blending
让两个投影视场部分重叠，并在重叠区内对光强做渐变过渡，使拼接缝不会在成品层上显现为一条线。

F

帧率 Frame rate
DMD 每秒可显示的图案数量。它与数据吞吐量共同决定滚动曝光所能达到的速度。

L

LASER
波长单一且严格限定的光源。当工艺需要更窄的光谱和更高的功率密度时，部分 LLS 曝光头可选用激光源替代 LED。
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LED
发光二极管。多数 LUXBEAM 光机采用的光源：瞬时启停、无需预热、无灯泡更换，输出通过电子方式而非机械快门调节。
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镜头 Lens
位于 DMD 与基板之间的投影光学组件。镜头的选择同时决定像素尺寸、视场大小与工作距离，三者无法各自独立选取。
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DLP光机 Light engine
把图像数据转换为投影图形的光学子系统，包含光源、DMD、投影光学与相应的驱动电子。LRS 系列即属于光机。
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光源 Light source
产生光的部件，可以是 LED 阵列或激光器。它决定了波长和可用功率，其稳定性则决定曝光的可重复性。
6 个产品 · 2 个页面 · 6 篇文章 · 4 份文档 — 光源 的链接对象

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M

计量 Metrology
测量物体的形状与尺寸；在 Visitech，指基于 DLP 的 3D 计量。投影光机将精确的光图案投射到物体表面，相机根据图案的变形重建其形状。该市场由原 Keynote Photonics 团队、现 Visitech Americas 提供服务。
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安装距离 Mounting distance
从光机安装面到基板的距离——由于以集成商实际固定的表面为基准，这才是搭建机架时真正使用的尺寸。

N

投影面尺寸 Native image size
单次曝光在工作面上覆盖的面积，不含拼接与平台移动。数值为像素尺寸乘以 DMD 分辨率。
1 个产品 · 1 份文档 — 投影面尺寸 的链接对象

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NIR
近红外，指可见光红端之外的波段。在烧结等依靠热效应而非光化学反应驱动的工艺中，会采用 NIR 光机。
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O

光学多路复用 Optical multiplexing
把多条光路合并为一路输出，使单台光机能够输出超过单一光源所能提供的功率。
1 篇文章 — 光学多路复用 的链接对象

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光学 Optics
把光从光源引导至 DMD、再从 DMD 引导至基板的透镜与反射镜的总称。
6 篇文章 — 光学 的链接对象

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P

曝光头 Photohead
把 DMD、光学系统、光源、驱动器和控制电子集成在同一机壳内的完整成像单元，由设备制造商装入自有系统使用。曝光图形由曝光头完成，基板处理则由周边设备负责。
1 个产品 · 1 个页面 · 6 篇文章 · 1 份文档 — 曝光头 的链接对象

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像素尺寸 Pixel pitch
工作面上相邻投影像素之间的距离，以微米计。它与分辨率共同决定了视场尺寸和最小可成型特征。
1 个产品 · 5 篇文章 · 1 份文档 — 像素尺寸 的链接对象

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功率均匀性 Power uniformity
曝光视场内光强分布的均匀程度，以百分比表示。功率不均意味着同一图形在不同位置的显影结果不同，因此该数值限定了线宽指标所能真实承诺的水平。
6 个产品 · 3 份文档 — 功率均匀性 的链接对象

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投影光机 Projector
把图形成像到一定距离外表面上的光学单元。工业投影光机的规格由输出光功率、波长和工作面上的像素尺寸决定，而不是亮度与对比度。
5 个产品 · 2 个页面 · 4 份文档 — 投影光机 的链接对象

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输出光功率 Projector output power
光机在工作面上输出的光功率，以瓦计。它与材料所需的曝光剂量共同决定单层的曝光速度。
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R

分辨率 Resolution
系统能够形成的最小特征尺寸。在 DLP 系统中，它取决于 DMD 的像素数以及把像素成像到基板上的光学系统。
6 个产品 · 3 个页面 · 1 篇文章 · 3 份文档 — 分辨率 的链接对象

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S

拼接 Stitching
把多次曝光并排拼接成一幅大图形。接缝的精度决定了最终结果能否表现为一幅连续的完整图形。
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亚像素 Sub-pixelation
通过调制相邻微镜的动作，把图形边缘落在两个像素之间而非某一个像素上，从而获得比像素尺寸本身更精细的有效栅格。
1 篇文章 — 亚像素 的链接对象

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W

波长 Wavelength
光的颜色，以纳米计。它必须与光刻胶或材料的响应波段匹配——紫外常用 365、375、385、405 nm，而热驱动工艺则使用近红外。
3 篇文章 — 波长 的链接对象

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工作距离 Working distance
从最后一个光学面到基板的距离。它由镜头决定且不可更改，是整机设计首先要迁就的约束之一。
WQXGA
指 2560 × 1600 的 DMD 分辨率。它是 LUXBEAM 系列中应用最广的主力规格，在光刻与增材制造场景下都能兼顾视场尺寸与像素尺寸。
2 篇文章 — WQXGA 的链接对象

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WUXGA
指 1920 × 1200 的 DMD 分辨率。
WXGA
指 1280 × 800 的 DMD 分辨率——紧凑规格，适用于小而快的画面比大画面更契合工艺需求的场合。

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